ASML 擬 2028 年前把 EUV 光刻機年產量提升至逾 110 台，英偉達與台積電帶動晶片設備需求

ASML 預期，人工智能晶片製造設備的需求將持續超過供應，直至 2028 年。該公司計劃把極紫外（EUV）光刻機年產量提升至 110 台以上。這一預期主要受英偉達與台積電等企業對 AI 晶片設備的強勁需求帶動。