ASML、2028年までにEUV装置の年産110台超を目標 エヌビディアとTSMCが製造装置需要を押し上げ

ASMLは、EUV（極端紫外線）露光装置の年産を110台超に引き上げる計画を掲げる一方、AI向け半導体製造装置の需要が2028年まで供給を上回り続けるとの見通しを示している。この見通しの主な背景には、エヌビディアやTSMCなどによるAIチップ製造装置への強い需要がある。